Runway ML es una plataforma de edición de video impulsada por inteligencia artificial, diseñada para democratizar el acceso al cine y los efectos visuales. Permite editar, mejorar y generar contenido audiovisual con comandos sencillos, sin depender de software complejo como After Effects o Premiere.
Runway AI, Inc. —también conocida como Runway o RunwayML— se fundó en 2018 en Nueva York por Cristóbal Valenzuela, Anastasis Germanidis y Alejandro Matamala.
A lo largo de su trayectoria, la compañía ha levantado varias rondas de financiación y ha construido un ecosistema de herramientas colaborativas para producción audiovisual basadas en modelos generativos.
Runway ha impulsado festivales y proyectos profesionales; al mismo tiempo, existen debates sobre derechos de autor y prácticas de entrenamiento de modelos. Es clave un uso responsable y transparente de estas tecnologías.
Runway ML facilita tareas como la eliminación de fondos, la estilización y la generación de secuencias desde texto, acercando capacidades de alto nivel a cineastas, creadores y departamentos de marketing sin exigir flujos de posproducción complejos.
En ESEPE Estudio seguimos de cerca las herramientas que están transformando la creación de contenidos. Soluciones como Runway ML marcan el rumbo de una nueva etapa en la edición audiovisual, y desde nuestro espacio de formación y consultoría digital acompañamos a profesionales y empresas que buscan integrar la inteligencia artificial en sus flujos de trabajo de forma creativa y estratégica.
